6N级气体纯化:对金属有ji源及氢化物进行深du纯化,将杂质浓度降至ppt级,确保原子级外延生长精度。
系统级优化:实现工艺稳定性
动态流量控制:高精度质量流量控zhi器与过滤系统联动,实时调节气流比例,将流量波动控制在±0.2% FS,保障薄膜均匀性。
泄漏主动防护:集成红外传感器监测SiH₄等危险气体泄漏,触发氮气吹扫防止爆燃污染反应腔
低温输运技术:对易冷凝前驱体采用-40℃冷冻储运及低温MFC控制,避免气化过程中纯度衰减。本文源自
MOCVD滤芯ttp://www.galthe.com/。